Plating Areaด้านการชุบของ TSP

Plating differentiationความแตกต่างในการชุบของ TSP

ดูแล Module Type Plating และ Area

ขึ้นรูป Line การชุบ Ni+Ag ด้วยการติด Masking Tape ทั้งหมด 2 ครั้ง โดยใช้ Laminator (1 ครั้ง)

  • turn table
  • Ni Line taping
  • clean
  • acid
  • Ni plating
  • Ni Line tape strip
  • Ag Line taping
  • Cu strike
  • Ag strike
  • Ag plating
  • Ni,Ag Line tape strip
  • การเป่าแห้ง
  • turn table

Plating Technology Statusสถานะเทคโนโลยีการชุบของ TSP

การทำ Cu Rough Treatment (ด้านเดียว, สองด้าน)

ทำการ Oxide Etching บนผิว Bare Copper เพื่อสร้างชั้นผิวขรุขระที่สม่ำเสมอและหนาแน่น

  1. 1
    เริ่มการกัด Cu และการสร้างชั้นยึดเกาะ

    Cu1+ ระยะเริ่มต้นถูกออกซิไดซ์
    และ Cu2+ ที่ละลายน้ำได้
    เหนี่ยวนำให้เกิดการสร้างชั้นยึดเกาะของโลหะ

  2. 2
    ชั้นยึดเกาะเติบโตและเข้าสู่สมดุลการละลาย

    การเติบโตและการละลาย
    ดำเนินไปพร้อมกัน
    และชั้นยึดเกาะมีความหนาสูงสุดในสภาวะสมดุล

  3. 3
    เกิด Ag Spot บนผิวขรุขระ
Process Mechanism
Roughening Treatment Process Mechanism
리프 표면층 형성 공정 이미지

การชุบ Ni, Ag

닫기

การชุบ Ag

닫기

การชุบ Cu

닫기

ผิวหยาบ Cu

닫기

การชุบ Ag Spot

닫기